mr-NIL210納米壓印光刻膠具有出色的固化和納米壓印性能，特別適用于使用軟印模材料（例如PDMS）的軟NIL，可替代mr-UVCur06納米壓印光刻膠（已停產(chǎn)）。

mr-NIL210納米壓印光刻膠 特征：
• 在空氣中（存在氧氣）也具有出色的固化性能；
• 對各種基材（如硅，石英或鋁）具有良好的干法刻蝕穩(wěn)定性；
• 純有機抗蝕劑，固化后可通過氧等離子體去除殘留物；

Processing Details：

Processing Scheme：

Film thickness and spin curves：

應用領(lǐng)域：
• 蝕刻掩模，用于圖案轉(zhuǎn)印工藝（干法和濕法蝕刻）
• 納米結(jié)構(gòu)的制造
• LED，光子晶體
• 圖案藍寶石襯底（PSS）
• 微電子學
• 有機電子產(chǎn)品（OLED，OPV，OTFT）