一、簡介
德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束及深紫外光刻膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。
二、電子束及深紫外光刻膠 產品介紹：
| 品牌 | 產地 | 型號 | 曝光 | 特點 | |||||||||||
| Micro Resist | 德國 | ma-N 2400系列 | 電子束 和深紫 外曝光 | 電子束和深紫外靈敏； 非常適合作為刻蝕掩模，抗干刻、濕刻性能； 膠圖案良好的熱穩定性； 優異的圖案分辨率-50 nm以下； 堿性水溶液下顯影； | |||||||||||
| mr-EBL 6000 | 電子束曝光 | 電子束和深紫外靈敏； 非常適合作為刻蝕掩模，抗干刻、濕刻性能； 光膠圖案良好的熱穩定性； 優異的圖案分辨率-80 nm以下；堿性水溶液下顯； | |||||||||||||
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