Futurrex

美國

NP9–250P

i線曝光用粘度增強負膠系列

在設計制造中替代基于聚異戊二烯雙氮Polyioprene-Bisazide的負膠。

在濕刻和電鍍應用時很強的粘附力；很容易用去膠液去除

單次旋涂厚度范圍如下：﹤0.1～200 μm可在i、g以及h-line波長曝光

避免了基于有機溶劑的顯影和沖洗過優(yōu)于傳統(tǒng)正膠的優(yōu)勢：控制表面形貌的優(yōu)異線寬 任意甩膠厚度都可得到筆直的側(cè)壁；

單次旋涂即可獲得200 μm膠厚

厚膠同樣可得到的分辨率

150 ℃軟烘烤的應用可縮短烘烤時間；

優(yōu)異的感光度進而增加曝光通量

更快的顯影，100 μm的光刻膠顯影僅需6 ～ 8分鐘光刻膠曝光時不會出現(xiàn)氣泡

可將一種顯影液同時應用于負膠和正膠；

不必使用增粘劑如HMDS

NP9–1000P

NP9–1500P

NP9–3000P

NP9–6000P

NP9–8000

NP9–8000P

NP9–20000P

NP9G–250P

g和h線曝光用粘度增強負膠系列

NP9G–1000P

NP9G–1500P

NP9G–3000P

NP9G–6000P

NP9G–8000

Micro Resist

德國

ma-N 400

寬帶或i線曝光

0.5 ～ 20 μm膠厚

非常適合作為刻蝕掩模的抗干刻、濕刻性能；優(yōu)異地利用PVD和lift-off加工進行圖案轉(zhuǎn)移能力；優(yōu)異的電鍍性能（酸和堿性鍍液中*的穩(wěn)定性）；光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；堿性水溶液下顯影；

品牌

產(chǎn)地

型號

甩膠范圍

應用

GES

瑞士

GM1010

0.2 - 0.8 μm

可用于甩膠和噴涂

GM1040

0.8 - 10 µm

可用于甩膠、噴涂和噴墨打印

GM1050

3 - 8 µm

可用于甩膠和噴墨打印

GM1060

10 - 50 µm

可用于甩膠和噴墨打印

GM1070

50 - 250 µm

可用于甩膠和噴墨打印

GM1075

250 - 350 µm

可用于甩膠和噴墨打印

Futurrex

美國

NR71-250P

i線曝光的高級

加工負膠系列

替代用

于RIE

加工及

離子植

入的正膠

在RIE加工時優(yōu)異的選擇性以及在離子注入時優(yōu)異的高溫耐受能力

厚度范圍：﹤0.1～200μm

可在i、g以及h-line

波長曝光

控制表面形貌的優(yōu)異線寬

任意甩膠厚度都可得到筆直的側(cè)壁

單次旋涂即可獲得200 μm膠厚

厚膠同樣可得到的分辨率

150 ℃軟烘烤的應用可縮短烘烤時間

優(yōu)異的感光度進而增加曝光通量

更快的顯影，100 μm的光刻膠顯影僅需6 ～ 8分鐘

光刻膠曝光時不會出現(xiàn)氣泡

可將一種顯影液同時應用于負膠和正膠

優(yōu)異的溫度阻抗直至180 ℃

在反應離子束刻蝕或離子減薄時非常容易地增加能量密度，從而提高刻蝕速度和刻蝕通量

非常容易進行高能量離子注入

不必使用增粘劑如HMDS

NR71-350P

NR71-1000P

NR71-1500P

NR71-3000P

NR71-6000P

NR5-8000

NR71G-250P

g和h線曝光的高

級加工負膠系列

NR71G-350P

NR71G-1000P

NR71G-1500P

NR71G-3000P

NR71G-6000P

NR5G-8000

Micro Resist

德國

ma-N1400

寬帶或

i線曝光

0.5～ 20μm膠厚

非常適合作為刻蝕掩模的抗干刻、濕刻性能；

優(yōu)異地利用PVD和lift-off加工進行圖案轉(zhuǎn)移能力；

優(yōu)異的電鍍性能（酸和堿性鍍液中*的穩(wěn)定性）；

光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；堿性水溶液下顯影；

Futurrex

美國

NR71-1000PY

0.7μm~2.1μm

高溫耐受

用于i線曝光的負膠

LED、OLED、顯示器、MEMS、封裝、生物芯片等

金屬和介電

質(zhì)上圖案化，

不必使用RIE

加工器件的yong

久性組成

（OLED顯示

器上的間隔

區(qū)）凸點、

互連、空中

連接微通道

顯影時形成光刻膠倒

梯形結(jié)構(gòu)

厚度范圍：0.5～20.0 μm

i、g和h線曝光波長曝光

對生產(chǎn)效率的影響：

金屬和介電質(zhì)圖案化

時省去干法刻蝕加工

不需要雙層膠技術(shù)

NR71-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR71-3000PY

2.8μm～6.3μm

NR71-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR9-100PY

0.7μm~2.1μm

粘度增強

NR9-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR9-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR9-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR71G-1000PY

0.7μm~2.1μm

高溫耐受

負膠對  g、h線波長的靈敏度

NR71G-1500PY

1.3μm~3.1μm

NR71G-3000PY

2.8μm~6.3μm

NR71G-6000PY

5.7μm~12.2μm

NR9G-100PY

0.7μm～2.1μm

粘度增強

NR9G-1500PY

1.3μm～3.1μm

NR9G-3000PY

2.8μm～6.3μm

NR9G-6000PY

5.7μm~12.2μm

Micro Resist

德國

ma-N 400

寬帶或

i線曝光

0.5～20μm膠厚

非常適合作為刻蝕掩模的抗干刻、濕刻性能；優(yōu)異地利用PVD和lift-off加工進行圖案轉(zhuǎn)移能力；優(yōu)異的電鍍性能（酸和堿性鍍液中*的穩(wěn)定性）；光刻膠圖案良好的熱穩(wěn)定性；堿性水溶液下顯影；

ma-N 1400

品牌

產(chǎn)地

型號

甩膠范圍

應用

GES

瑞士

GM1010

0.2 - 0.8 μm

可用于甩膠和噴涂

GM1040

0.8 - 10 µm

可用于甩膠、噴涂和噴墨打印

GM1050

3 - 8 µm

可用于甩膠和噴墨打印

GM1060

10 - 50 µm

可用于甩膠和噴墨打印

GM1070

50 - 250 µm

可用于甩膠和噴墨打印

GM1075

250 - 350 µm

可用于甩膠和噴墨打印