SLZF270B蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
設(shè)備組成:
該設(shè)備主要由有機金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、電控系統(tǒng)組成。
技術(shù)要求:
1、真空度:鍍膜室的極限真空≤8×10-5Pa;
2、系統(tǒng)漏率≤1×10-10PaL/s。
3、蒸發(fā)源2個,容積1ml,1臺蒸發(fā)電源 ;(選配)
4、樣品架可放置大小為Φ120mm的樣品,載玻片;
5、抽速 30分鐘9×10-4Pa








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