連續雙通道顆粒外形異物掃描篩選機

　　異物的測量和分類是決定產品質量和客戶信任程度的重要因素。最近，這些問題不僅與外觀有關，還與安全有關。然而，抑制原始異物的能力有限，對異物測量消除器的需求一直在不斷增加。

　　與此同時，測量和分選異物的方法一直側重于測量速度，揭示了測量的局限性，以及分選含異物顆粒的產率極低等問題。此外，最近要求雜質顆粒的下限尺寸要小得多，因此必須準確、快速地測量細小雜質，并確保去除效率。

　　為了滿足這一工業要求，國外的顆粒測量和分選系統基本上采用高速旋轉轉臺進行樣品轉移，而不是重力沉降法，因為重力沉降法會造成質量故障。

　　放置在特殊鋼化玻璃轉盤頂部和底部的雙攝像頭照明系統可以同時從兩側重復測量異物，確保準確穩定的測量至少達到10微米。

　　從粒子的基本屬性（例如陰影、穿孔、彩色反射）顯著減少光學誤判，與人工智能程序配合使用，該程序僅能準確判斷異物，并可選擇配置為通過與異物清除設備（如高速分流器）實時合并，同時執行非常穩定和準確的異物測量和清除。同時雙測量系統能夠在50微米的基礎 ，分析高達每小時200kg的數據。這個產品可以非常簡單地應用于生產、質量控制和最終產品控制。

　　特點：

　　雙重探測系統 外來顏色或外來形狀

　　各種照明控制 堅固方便的設計

　　自由行動 自動平衡

　　剛性工業PC和控制過程采樣器 自動電離空氣控制清洗系統

　　檢測限：20μm 分析速度：200kg/1小時。