一、 簡介

KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術(shù)實(shí)現(xiàn)薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從nm-mm，可實(shí)現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導(dǎo)體膜、有機(jī)薄膜、導(dǎo)電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產(chǎn)品，可測量從幾mm到450mm大小的樣品，薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。Filmetrics F50 系列的產(chǎn)品能以每秒測繪兩個點(diǎn)的速度快速的測繪薄膜厚度，配備R-θ極坐標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)和訂制化樣品盤，樣品直徑可達(dá)450毫米。

測量原理-光譜反射

光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng) （絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。 因?yàn)椴簧婕叭魏我苿釉O(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更*透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。 而且具有快速，簡便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。

二、 主要功能

l  主要應(yīng)用

測量厚度、折射率、反射率和穿透率

?   單層膜或多層膜疊加

?   單一膜層

?   液態(tài)膜或空氣層

膜厚2D和3D mapping繪制

l  技術(shù)能力

光譜波長范圍：190-1700 nm

厚度測量范圍：1nm-250 μm

測量n&k最小厚度：50 nm

準(zhǔn)確度：取較大值，1nm或0.2%

精度：0.02nm

穩(wěn)定性：0.05nm

光斑大小：1.5mm

標(biāo)準(zhǔn)卡盤：直徑200mm或300mm

選擇顯微鏡模塊，可升級為F54

三、 應(yīng)用

半導(dǎo)體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料、CMP

液晶顯示：OLED、玻璃厚度、ITO

光學(xué)鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層

高分子薄膜：PI、PC