一、 簡介

KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從nm-mm，可實現如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子、生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品，可測量從幾mm到450mm大小的樣品，薄膜厚度測量范圍1nm到mm級。Filmetrics F54-XY 系列的產品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度，配備XY高精度移動臺，樣品直徑可達200/300毫米。

二、 主要功能

l  主要應用

測量厚度、折射率、反射率和穿透率

?   單層膜或多層膜疊加

?   單一膜層

?   液態膜或空氣層

膜厚2D和3D mapping繪制

圖案化晶圓微曲膜厚測量

l  F54-XY-200技術特點

光譜波長范圍：190-1700 nm（可選）

厚度測量范圍：4nm-115 μm

測量n&k最小厚度：50 nm

準確度：取較大值，1nm或0.2%

精度：0.02nm

穩定性：0.05nm

微光斑：小至5um

AutoFocus自動聚焦功能

高精度XY移動臺

圖形識別功能，可自動測量圖案化晶圓（選配）

自動鏡頭轉塔（選配）

三、 應用

半導體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料、CMP

液晶顯示：OLED、玻璃厚度、ITO

光學鍍膜：硬涂層厚度、減反涂層

高分子薄膜：PI、PC