一、簡介

美國Four Dimensions,Inc, 簡稱“4D"，成立于1978年，位于美國加州硅谷的Hayward, 4D公司專注于四探針設備和CV測試儀的生產和銷售，累計銷量達1000臺以上，遍布世界各大半導體Fab, 太陽能光伏企業，大學及科研機構，“4D"更是儼然已成為四探針的代名詞。

二、主要功能

l  技術規格

測量尺寸：晶圓尺寸：2-8寸（333系列可測量大至12寸晶圓，1100系列可測量大至2160mmX2400mm平板系列）

測量范圍： 0.001Ω/sq 至 800000Ω/sq（標準型）；

可往下擴展至：0.0001Ω/sq，往上擴展至8E9或8E11Ω/sq。

測量方式：電腦程序自動測量，或不連電腦單測量主機也可實現測量和數據顯示，此時非常適合測試不規整樣片單點測量，適合實際研究需要。

測量的數據：方塊電阻/電阻率/薄膜厚度，根據具體應用可以設置不同測量程序。

測量的點數：程序編排任意測量點位置及測量點數量，對應不同客戶不同測量要求任意編程測量點位置與數量。

測量的精確度：<0.1% （標準模阻）；

測量重復性：<0.2% （特定片子）；

測量速度：>45點/分鐘；

測量數據處理：根據需要顯示2D，3D數值圖，或按要求統計并輸出Excel格式文件；

邊緣修正：具有邊緣修正功能，即片子邊緣3mm以內區域都能測量；

探針材料：鎢鋼與硅片的接觸電阻最小，且耐磨。另外每跟針的軸套采用非常耐磨藍寶石材料，以確保長時間使用后間距的一致性；

探針壓力可調范圍：90-200克之間可調；

可供選擇的探頭類型：根據測試不同工藝要求有A, B,K, M, N等相關型號探頭選擇，另外還可提供專門為客戶定制的應用特殊要求的探針，比如測試薄至30A的薄膜時需要使用MR型探頭，這是四探針設備供應商少有能做到的。

三、應用

應用于金屬鍍膜和擴散，離子注入等摻雜工藝監控調試，薄膜電阻率或厚度測量等工序。