超高溫加熱臺1200-V/ G是可用于真空和氣密環境中的特高溫加熱平臺，溫度范圍是從室溫到1200℃。非常適合光熱顯微鏡,光譜學應用和其他需要溫度樣品加熱的應用。 超高溫加熱臺1200-V/ G可以輕易地并入任何復雜的高科技設置。工作臺為地質，流體包裹體，半導體，光電，或其他材料科學應用提供解決方案。
MHCS622-V / G配備有高精度MTDC600可編程溫度控制器。 MTDC600溫度控制器可以通過軟件或手動操作。這增加了系統的適應性和靈活性。
1200-V/ G特點
•真空或氣密環境
•溫度范圍寬
•可編程溫度控制器
•高精確度和高分辨率的溫度測量和控制
•軟件或手動控制
•適用與透射光和反射光
•觀察孔范圍廣
•可移動蓋子，方便樣本進入
•水平和垂直安裝
•真空口，氣口，抽真空的4/6或8引腳電引入
•水制冷架
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