PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200 Pro
（PICOSUN™ ALD R-200 S Pro）
原子層沉積系統(tǒng)（ ALD P-200）
名稱：原子層沉積系統(tǒng) 產(chǎn)地：芬蘭
Picosun簡介
Picosun是yi家公司，Picosun的總部位于芬蘭的Espoo，其生產(chǎn)設施位于芬蘭的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD設備專為高產(chǎn)量和高產(chǎn)量而設計，并且不斷發(fā)展以提。Picosun適應性強其客戶包括zui 大的電子制造商，小型的型挑戰(zhàn)者以及的大學。 Picosun的組織機構和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個客戶的需求。PICOSUN®研發(fā)工具具有的內置可擴展性，可確保將研究結果平穩(wěn)過渡到大批量工業(yè)制造中，而不會出現(xiàn)技術差距。Picosun的熱情在于。當您想與設備制造商共同創(chuàng)建定制的ALD解決方案，從而引ling行業(yè)發(fā)展時，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN™ P系列量產(chǎn)ALD系統(tǒng)定義了高產(chǎn)量ALD的新時代。我們全自動化、真空集群與產(chǎn)線兼容的P系列ALD確保了zui大的產(chǎn)出效率，并且具有的工藝純度和薄膜均勻性，甚至能滿足具有zui嚴格要求的半導體行業(yè)標準。PICOSUN™ P系列ALD高效緊湊的設計節(jié)約了昂貴的場地成本，系統(tǒng)的易維護性減少了停工期。對于系統(tǒng)的維護、工藝故障的排除，我們?yōu)榭蛻籼峁┑姆誔icosupport™。根據(jù)用戶的需求，確保每時每（24/7/365）快速提供的解決方案。在購買之前，我們提供做樣服務，確保系統(tǒng)具有zui好的性能，滿足您的需求。
技術指標
襯底尺寸和類型 | 50 – 200 mm /單片 |
156 mm x 156 mm 太陽能硅片 | |
150 mm x 150 mm 顯示面板 | |
工藝溫度 | 50 - 500 °C , 可選更高溫度 |
基片傳送選件 | 氣動升降（手動裝載） |
半自動裝載，用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實現(xiàn) | |
25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實現(xiàn) | |
標準 | SEMI S2 認證（認證中） |
前驅體 | 液態(tài), 固態(tài), 氣態(tài), 臭氧源, 等離子體（zui多4路氣體）： |
前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務 | |
6根獨立源管線，zui多加載12個前驅體源（加上Plasma管路，共7根獨立源管線） | |
重量 | 790 kg |
尺寸 (W x H x D) | 160 cm x 80 cm x 240 cm |
可選件 | 集群工具, PICOFLOW™ 擴散增強器, 集成橢偏儀, QCM, RGA, N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設計，與 工廠軟件連接服務。 |
驗收標準 | 標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝， |
其他工藝可具體協(xié)商：其他工藝、應用具體驗收標準如： | |
--不均勻性 | |
--顆粒物含量 | |
--重金屬污染 | |
--電學性能 |
應用領域
PICOSUN™ 200mm 生產(chǎn)線上的產(chǎn)品是200mm以下晶圓的自動化、高產(chǎn)量的工業(yè)ALD加工設備。包括PICOSUN™ P系列Pro ALD設備。該工具可以獨立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系統(tǒng)以達到更高的產(chǎn)量和自動化水平。為了節(jié)約昂貴的設施空間，所有PICOSUN™的ALD系統(tǒng)有著緊湊，高效的設計。集成的機柜，裝載著前驅體和電子元件，保證了快速簡便的維護和zui短的停機時間。PICOSUN™ P系列Pro工具保證了zui大產(chǎn)能以及zui節(jié)約成本的情況下得到的ALD工藝質量，并履行嚴格的現(xiàn)代半導體產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)力和安全要求。
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