一、箱式真空爐應(yīng)用領(lǐng)域   

該箱式真空爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和40段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空箱式爐廣泛應(yīng)用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。

二、箱式真空爐主要特點   
箱式真空爐爐門口安裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達5pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。

三、箱式真空爐規(guī)格型號