電子束蒸鍍系統為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其中電子束是由鎢絲所產生的，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料，並將其材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環境中，以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

電子束蒸鍍比熱蒸發更具有優勢。它能夠在非常高的溫度下熔化材料，如鎢、石墨...等等。結合石英震盪片的反饋信號，可輕鬆控制蒸發速率，以調節電子束電流並蒸發更多材料而不會破壞真空。因此，電子束蒸發用於薄膜製程領域，包括半導體、光學、太陽能電池板、玻璃和建築玻璃，因此它們具有所需的導電，反射，透射和電子等特性。