RUWVD系列隔振光學平臺支架采用整體焊接工藝，確保隔振系統整體的穩定性，減震器采用專業級精密阻尼減振器，比起標準阻尼隔振墊，隔振性能進一步大幅提高，另外支架配有高度調整機構和腳輪，方便移動和調整。
■臺面材料：不銹鋼面板材料為1Cr17
■上臺面厚度6mm高導磁不銹鋼，表面密迪紋處理（配合磁力底座使用）
■表面M6螺紋孔、孔間距25X25mm
■平面度：≤0.02-0.05mm/m2
■平臺中心300mm×300mm 內載荷114kg，常規支撐間距下的變形量：＜6×10-3mm
■動撓度系數<1.2×10-3;的相對位移變形：＜8×10-7mm
■表面平面度優于±0.1mm/600mm2；
■表面粗糙度:≤0.8μm
■采用專業級精密阻尼減振器，比起標準阻尼隔振墊，隔振性能進一步大幅提高
■固有頻率：3～6Hz （根據實驗環境有差異）
■振幅：<5μm
■負載800kg/m2
■可選厚度50mm/100mm/200mm/300mm
■適合于光通訊、電子制造、科研、科研院校、顯微鏡、光路測試、光學測量、激光干涉、激光掃描、光譜實驗等領域應用（對磁場較高的要求，百級間均可滿足使用要求）
所有評論僅代表網友意見，與本站立場無關。