SE300橢偏儀400nm到1000nm測量薄膜材料厚度

產(chǎn)品簡介

SE300橢偏儀是一種利用光的偏振態(tài)變化來進行薄膜性質(zhì)表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數(shù)等性質(zhì)。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成偏振光后通過一定角度入射到樣品上，偏振光進入樣品介質(zhì)后會反射回到橢偏儀檢偏器內(nèi)，由于樣品介質(zhì)會對偏振光的偏振態(tài)發(fā)生改變，而這種改變會被橢偏儀測量，橢偏儀就是利用這個介質(zhì)對偏振光性質(zhì)改變的原理來表征介質(zhì)的性質(zhì)的。


SE300型號實現(xiàn)400nm到1000 nm超長波段的探測，可實現(xiàn)對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究，同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應(yīng)用需求。

設(shè)備配置

探測器：陣列探測器

光源：高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源

測量角度變化：手動調(diào)節(jié)

軟件：TFProbe 3.2版本的軟件

計算機：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

保修：一年的整機及零備件保修

規(guī)格參數(shù)

波長范圍：400nm到1000 nm

波長分辨率: 1nm

光斑尺寸：1mm至5mm可變

入射角范圍：0到90度

入射角變化分辨率：5度間隔

樣品尺寸：zui大直徑為200mm或者150mm邊長方形

基板尺寸：zui多可至20毫米厚

測量厚度范圍*：5nm〜10μm

測量時間：約1/位置點

精度*：優(yōu)于0.25％

重復(fù)性誤差*：小于1 Ǻ

產(chǎn)品選型

用于反射的光度測量或透射測量；

用于測量小區(qū)域的微小光斑；

用于改變?nèi)肷浣嵌鹊淖詣恿拷瞧鳎?br>
X－Y成像平臺(X-Y模式，取代ρ-θ模式)；

加熱/致冷平臺；

樣品垂直安裝角度計；

波長可擴展到遠DUV或IR范圍；

掃描單色儀的配置；

聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能，可用于對樣品的圖像進行測量等。

產(chǎn)品相冊