uv光催化設備裝置工藝原理

光化學利用高強輻照場對惡臭物質的破壞作用和氧對惡臭物質的氧化去除作用來去氣體中的硫化氫、苯系物、甲硫醇、芳香烴等 VOC（揮發性有機物），并利用氧在強輻照下分解所產生的活潑的次生氧化劑來氧化有害物質，輻照場和氧一道，存在著一個協同作用，這種協同作用使該技術對惡臭去除的速率得到7至9 個數量級的增加，即反應速度增加千萬至十億倍。輻射與惡臭氣體分子的相互作用可以看作是輻射場（震蕩電場）與電子（震蕩偶極子）會聚時的一種能量交換。硫化氫等惡臭氣體分子在輻照射線的作用下，物質分子的能態發生了改變，即分子的轉動、振動或電子能級發生變化，由低能態被激發至高能態，這種變化是量子化的。量子化反應并結合過濾凈化、吸附凈化等技術達到惡臭氣體凈化和達標排放的目的。