Leica EM TIC 3X 通過離子槍激發獲得的離子束，以垂直于樣品側面縱向轟擊樣品，可獲得高質量無應力“切割”截面，便于SEM觀察。該處理方法適用于多層膜材料、軟硬復合材料等高難度制備樣品，并且操作簡單，可有效避免涂抹效應，不需要大量摸索條件即可獲得理想的截面，使樣品暴露內部細微結構信息。

主要技術參數

• 可容納樣品尺寸50×50×10mm，可獲得有效切割截面面積＞4mm×1mm

• 三把離子槍，離子束能量1keV-10keV，切割速率150µm/h (Si@10kV, 50µm切割高度)

• 離子束處理過程中樣品位置固定，無需偏轉運動，無投影效應，熱傳導性好

• 可進行離子束切割或刻蝕，可選擇任意離子槍

• 真空泵解耦合設計，無震動傳導

• 觸摸屏操作面板，直觀、簡易操作，可編程可軟件升級

• 可選配：液氮制冷冷臺-150°至30°，25L液氮罐及自動泵，具有自動快速制冷功能

• 可選配：三樣品臺，可一次連續處理三個樣品

• 可選配：旋轉樣品臺，用于對樣品進行離子束拋光