Spark 8000 全譜火花直讀光譜儀

　　充氬儀器：延長光室吹掃時間，清理紫外光室透鏡，清理火花臺，校正光譜，標準化。

　　真空儀器：觀察真空是否泄漏，清理火花臺，清理光室透鏡，重新描跡，標準化。

　　Spark 8000光譜儀可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及 其合金的樣品分析。采用高分辨率線陣 CMOS （Complementary Metal Oxide Semiconductor） 作為檢測器， CMOS檢測儀器集成性高、讀取速度更快、功耗低、長期穩定性更高；每個 像素自帶放大器，可對特殊元素進行強度調整，增加儀器的準確度，降低分 析限，實現全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統，儀器性能更穩定，服務 期限更長久。海量的譜線使分析不再受限，曲線分段跳轉同一元素不同譜線 間實現無縫銜接，拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準確，可 以在用戶現場任意增加材料基體和分析元素而無需增加硬件，維護保養方便。 能量、頻率連續可調全數字固態光源，適應各種不同材料；網口采集傳輸， 速度快，通用性更強。

　　技術優勢：

　　1、檢測器靈敏度行業

　　高靈敏度CMOS 檢測器

　　像素數：4096，全行業

　　像素尺寸： 7μm，全行業最小

　　精薄鍍膜，紫外波段檢出限更低，可做低含量，線性度好，圖像滯后小

　　工作頻率范圍寬，可在1~10MHz下工作

　　2、萬級超凈環境下打造光學系統

　　帕邢 - 龍格結構羅蘭光學系統，無像差，分辨率均勻

　　高發光全息光柵，光柵焦距 500mm, 刻線為 2700 條 /mm，全行業

　　線分辨率 0.7407nm/mm

　　像素分辨率 0.005926nm

　　譜線范圍：130-800nm（可分析 N、Li、 Na、K 等元素）

　　3、智能控制系統，再啟動耗時行業

　　潮汐式沖洗方式，冷機（關機12小時）啟動只需 30min，熱機啟動時間 5min

　　智能判斷分析間隔時間，合理補充氬氣，降低氬氣消耗60ml/min 超低待機流量，一瓶氬氣 24 小時待機 70 天

　　4、分片式曝光，痕量元素識別強度大幅提高，檢出限更低

　　一次激發，分片曝光，同時采集，同時回數

　　獨立控制不同 CCD 的積分曝光時間

　　提升痕量元素的強度，降低儀器的 檢出限

　　隨波段調節積分時間，提升儀器的 穩定性

　　儀器特點：

　　1、全固態數字火花光源

　　全固態數字火花光源（國家技術 號 ZL 2010 1 0118150.4）

　　能量、頻率連續可調 頻率可達 1000Hz

　　MTBF（平均間相隔時間）＞ 5000 小時

　　2、同軸自旋式氣路激發臺

　　自旋氣路

　　增壓式自吹掃 激發充分

　　千次激發無需清理

　　3、恒溫系統

　　硅膠加熱片，加熱均勻、穩定

　　高精度溫控系統，溫度控制精度 ±0.1℃ 多重保溫措施，隔絕環境溫度影響，保證光學系統穩定

　　為什么光譜儀激發樣品時需要高純氬氣保護?

　　(1)氬氣的電離電位較低，易于形成等離子區;

　　(2)氬氣為惰性氣體，不會與樣品金屬蒸氣反應;

　　(3)氬氣能夠傳輸真空紫外光譜(并非真空下的光譜，而是波長在10-200nm之間的光譜)，如C、P、S等，不會影響紫外及真空紫外區域元素的測定;

　　(4)氬氣為原子狀態氣體，譜線簡單，不宜形成譜線干擾;

　　(5)氬氣的背景輻射低;

　　自行檢查氬氣的質量比較困難，一般而言，首先是看氬氣供應商的資質，其次，為保證氬氣純度，可配置氬氣凈化器。若要對氬氣精確檢驗，須采購特定的氬氣純度測定儀。

　　當然還有一種簡單方法，因直讀光譜儀對氬氣的純度要求很高，可以用直讀光譜儀試用下，若能夠正常激發，打出來的點無異常，且數據穩定，一般來說就可正常使用。為避免出現霧狀白點，建議配置氬氣凈化器。