ICP-MS電感耦合等離子體質譜，它是一種將ICP技術和質譜結合在一起的分析儀器，具有檢出限低、動態線性范圍寬、干擾少、分析精度高、分析速度快、可進行多元素同時測定等優異的分析性能，已成為痕量和超痕量分析有效的分析手段之一。

　　ICP-MS的應用領域

　　1、純金屬，材料，化合物

　　--高溫合金

　　--高純金屬

　　--高純稀土氧化物

　　2、環境監測

　　--飲用水

　　--固廢

　　--土壤

　　3、核化學及核環境監測

　　--廢渣及周邊環境

　　--鈾燃料生產

　　4、民生醫療

　　--藥品

　　--食品，農業

　　5、地球化學

　　--礦物，沉積物

　　6、微電子工業

　　-- 過程化學

　　--有機試劑

　　儀器特點：

　　1、樣品導入系統

　　敞開式進樣系統，配備外部可裝卸的玻璃同心霧化器與玻璃旋流霧室。

　　包含一個插入式自定位的標準整體型石英炬管，炬管被安裝在一個緊湊的法拉第網格屏蔽箱內，阻止高頻輻射。

　　在炬箱門上帶有一個防止紫外輻射的觀察窗口。

　　氣體屏蔽裝置阻止腐蝕性氣體侵蝕質譜儀中的一些關鍵部件。

　　4通道12滾輪的蠕動泵，與進樣系統緊湊的安裝，速度可變，由計算機控制（到100rpm）。

　　2 、RF發生器

　　l 27.12MHz；計算機控制功率調整，從100W到1600W連續可調，步進間隔1W。

　　l 對于不同種類的樣品，化功率設置被定義和存儲在每個相應的方法中。

　　3、真空系統:

　　三級真空系統配置了高級的分流式分子渦輪泵，擁有的氣體排氣量，頂端開啟式真空室，更容易接近分析器組件。

　　真空室內部所有元件的電路連接都采用了固定在真空室頂蓋上的金彈簧頂針接頭，減少了連線，使RF高頻泄漏降到最小，并確保電路通暢。

　　從大氣壓開始，20分鐘即可抽到可工作狀態。

　　真空度：關閉滑閥<5x 10-5Pa；操作儀器時<4x 10-4Pa

　　4、離子光學系統

　　光子和中性粒子的消除：離子偏轉鏡，使分析器和檢測器保持與光軸離軸。

　　透鏡組：帶偏轉的離子透鏡組，具有極低的背景噪聲，提供的信噪比。

　　5、四極桿/質量分析器

　　四極桿配置：230mm x 12mm 并采用了更方便的非對稱定位安裝支架系統。

　　四極桿材料：鉬和高純氧化鋁陶瓷支架。

　　四極桿設置時間：動態設置最小設置時間1ms

　　質量數范圍：2到255amu

　　四極桿電源采用DDS（直接數字頻率合成）技術，實現頻率自動匹配。

　　6、碰撞反應池技術

　　動能歧視技術；使用碰撞氣體（He）

　　有效地消除由樣品基體或等離子源引起的各種多原子離子干擾，同時保持碰撞反應池內的副產物最小化。

　　不需要更多復雜的電路裝置。

　　7、檢測器

　　雙排分列式打拿電極的電子倍增器，可以同時在脈沖和模擬模式下工作。

　　*的數模信號轉換電路，同時配有而新穎的檢測器內的變壓器系統，提供快速的模擬信號采集，增加信噪比，改善檢測器在長期使用下的穩定性。

　　檢測器采用插拔式設計，易于更換。

　　測量范圍：大于9個數量級

　　8、數據采集

　　多通道分析器：50,000 通道。

　　循環累計：多通道緩沖器數據采集，允許快速不間斷的數據采集。

　　在模擬和脈沖兩種模式中，最小駐留時間為1ms。

　　跳峰模式，全掃模式，峰掃描模式，在一次樣品數據采集中，可選用混合掃描數據采集模式，使用集成的軟件進行時序分析。

　　鋼研納克同時也是的標準物質提供商，都提供標樣，很多是以混標的形式包含了用戶要求濃度的多種元素。

　　溫馨提示：

　　1.開關氣氬氣原則

　　在啟動光譜儀前1小時打開氬氣瓶，分別調節兩瓶氣體使分壓表壓力到0.60-0.65Mpa，吹掃光室和 CID檢測器;在熄火后，不要馬上關掉氬氣，必須繼續開氣吹掃CID 20分鐘后才關掉氬氣瓶。

　　2.定期清洗炬管

　　一般在炬管變臟后(表面變黑)時須拆卸下來，用 8-10% 的稀硝酸浸泡2-3小時，然后用去離子水沖洗干凈，涼干裝上。

　　3.定期更換冷卻循環水：

　　經常開機情況下，一般半年至一年需要對冷卻循環水進行更換。

　　4.樣品測定完成后，先用3-5%的稀硝酸沖洗2-3分鐘，然后再用去離子水沖洗2-3分種后熄滅等離子體，松開泵夾。