產品簡介：
日本 KST 株式會社成立于 1998 年，作為日本設計并加工半導體及光通信用硅晶圓以及膜產品的公司，KST 株式會社依賴的熱氧化技術可以為客戶提供超厚氧化膜的晶圓產品，這些產品能夠幫助客戶開發新型光通信及 MEMS 器件，并能夠極大的提升量產良率。日本KST擁有的厚熱氧化膜加工工藝，使熱氧化膜厚度快速超過20um。應用于 MEMS，半導體功率器件等方向
產品型號：
應用場景：
MEMS
半導體功率器件
深圳市富泰克光電有限公司
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產品簡介：日本KST株式會社成立于1998年，作為日本設計并加工半導體及光通信用硅晶圓以及膜產品的公司，KST株式會社依賴的熱氧化技術可以為客戶提供超厚氧化膜的晶圓產品，這些產品能夠幫助客戶開發新型光通信及MEMS器件，并能夠極大的提升量產良率
產品簡介：
日本 KST 株式會社成立于 1998 年，作為日本設計并加工半導體及光通信用硅晶圓以及膜產品的公司，KST 株式會社依賴的熱氧化技術可以為客戶提供超厚氧化膜的晶圓產品，這些產品能夠幫助客戶開發新型光通信及 MEMS 器件，并能夠極大的提升量產良率。日本KST擁有的厚熱氧化膜加工工藝，使熱氧化膜厚度快速超過20um。應用于 MEMS，半導體功率器件等方向
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