SRS-400型磁控濺射PVD系統，配備三組磁控濺射靶群及控制系統，適用于沉積各種單/多層膜系.可實現單靶直濺和多靶共射功能。制備氮化物和氧化物反應膜濺射功能，可沉積金屬、合金、化合物、半導體、介質復合膜和其它化學反應膜層，非常適合科研實驗或新材料研發使用，適用于快速多層金屬或合成膜沉積工藝。主要特點：多膜系沉積功能，可濺射絕大多數膜層DC/RF濺射電源可以使多種膜系隨意切換大抽速真空系統即插即用多靶共鍍功能滿足多層多膜系混鍍要求全自動壓力控制，更利于沉積的均勻性預設參數全自動成膜過程無需人為干預應用領域：金屬和介質膜薄膜傳感器的制造光學元件納米與微電子太陽能電池主要配置：圓筒型真空室尺寸Ф400mm x320mm500L/s渦輪分子泵+雙級旋片泵組合全量程B-A復合真空規三組2英寸磁控濺射靶公自轉陽級基片掛架，更利于大片沉積的均勻性保證。2DC+1RF濺射電源VAT全自動壓控閘閥石英晶體監測系統用于實時厚度測量（1 nm精度）精密氣體質量流量計（MFC）基板600°C短波紅外可調加熱器全自動腔體上蓋開啟裝置自動PLC控制系統