產品介紹：北京中惠普DH-500氫氣發生器由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥、開關電源等部件組成。只電解純水即可產氫。通電后，電解池陰產氫氣，陽產氧氣，氫氣進入氫/水分離器。氧氣排入大氣。氫/水分離器將氫氣和水分離。氫氣進入干燥器除濕后，經穩壓閥、調節閥調整到額定壓力（～）由出口輸出。

詳情介紹

氫氣發生器結構：

氫氣發生器由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥、開關電源等部件組成。只電解純水即可產氫。通電后，電解池陰產氫氣，陽產氧氣，氫氣進入氫/水分離器。氧氣排入大氣。氫/水分離器將氫氣和水分離。氫氣進入干燥器除濕后，經穩壓閥、調節閥調整到額定壓力（0.02～0.45Mpa可調）由出口輸出。電解池的產氫壓力由傳感器控制在0.45Mpa左右，當壓力達到設定值時，電解池電源供應切斷；壓力下降，低于設定值時電源恢復供電。

DH-500氫氣發生器主要技術參數：

1. 氫氣純度：99.99999%
2. 氫氣流量：0-500ml/min
3. 輸出壓力：0-0.5Mpa
4. 壓力穩定性：< 0.0001MPa
5. 供電電源：220V±10%, 50Hz
6. 消耗功率：300W
7. 外型尺寸：420×200×350mm
8. 凈重：約15Kg

儀器特點：

1、采用鈀合金過濾膜，可確保氫氣純度持續達到99.99999%；
2、對原料水要求不高，只需普通蒸餾水即可；
3、不需要干燥劑（如：變色硅膠、分子篩等）；
4、儀器內部采用硅橡膠圈（含硫量低），有效提高氣體質量，保證色譜基線平穩；
5、免維護；
6、壓力及流量均采用一體化的控制；
7、全自動控制，設有水位、超壓等多種安全裝置；
8、可滿足高精度氣相色譜儀、譜儀、半導體外延、核物理實驗等對超高純度氫氣的需求。

同系列產品技術參數：

型號	流量	儀器特點
DH-300	0-300ml/min	全自動控制，不存儲氫氣，有水位、超壓的安全裝置，純度99.99999%
DH-500	0-500ml/min	全自動控制，不存儲氫氣，有水位、超壓的安全裝置，純度99.99999%
TH-300	0-300ml/min	采用的離子膜制氫技術，無需加堿，直接電解純水（去離子水、二次蒸餾水），優點：不污染色譜的任何部件。純度：優于99.999%，壓力：0-0.4MPa
TH-500	0-500ml/min
TH-1000	0-1000ml/min
SPH-200	0-200ml/min	體積小，重量輕，單過濾，壓力0.3MPa，自動防返堿，純度99.999%
SPH-300A	0-300ml/min	單不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999%
SPH-300	0-300ml/min	兩不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩檔可調，自動防返堿，純度99.999%
SPH-500A	0-500ml/min	單不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動防返堿，純度99.999%
SPH-500	0-500ml/min	兩不銹鋼過濾器，內有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩擋可調，自動防返堿，純度99.999%
GCD-1000	0-1000ml/min	大流量，可同時帶多臺色譜，自動防返堿，純度99.999%
GCD-3000	0-3000ml/min	安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業
GCD-6000	0-6000ml/min	安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業
GCD-9000	0-9000ml/min	安全可靠，自動流量跟蹤，用于中心實驗室集中供氫，可用于石化、半導體等行業