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污水處理 陰床出水HSi03含量偏高的原因是什么?如何處理?

2024年11月23日 16:34:02      來源:北京中科新遠環境工程有限公司 >> 進入該公司展臺      閱讀量:60

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污水處理 陰床出水HSi03含量偏高的原因是什么?如何處理?陰床出水中HSi03含量偏高,除了與進水中Na+含量有關外,與再生狀況(再生用堿量,濃度,純度等)及樹脂狀有關系。  
(1)再生用堿量  陰床再生有兩個特點:一是由于HSi03不像其他離子,雖然對陰樹脂的親合力較低,但從陰樹脂排出時,會發生聚合。因此必須用NaOH使聚合物溶解,才能將
HSi03從樹脂層洗脫下來。而洗脫這種聚合HSi03的效果與再生用堿量,特別是保護層的用堿量有關。二是由于HSi03在整個樹脂層分布較廣,被置換下的速度又比較緩慢,所以需要較長的再生時間。
    因此,適當的再生劑用量,不僅能提高陰樹脂的交換容量,而且除硅效果也有顯著提高。試驗證明:只有NaOH用量達到一定比耗時,才能達到比較的除硅效果。用堿量不足,則可能由于除硅不而使陰床出水中HSi03的含量偏高。
    (2)再生液濃度偏高‘’再生液濃度對陰床的除硅有兩個作用:一是由于強堿性陰離子交換樹脂的活動性總的說來較弱,所以在電解質濃度較高的溶液中,其雙電層易受壓縮,‘再生液中的OH一就很難將陰樹脂上吸附的HSi03置換得很。二是當再生液濃度較高時,再生液體積則相對的小,與樹脂接觸時間也短,再生不易充分,這樣也會影響陰床對HSi03的去除,致使出水中HSi03含量偏高。
    當采用較稀的再生濃度(0.2%~Oj 5%)或兩步再生時,曲于陰離子交換樹脂的雙電層有所擴張,OH一就可以較充分地將HSi03置換下來,除硅效果也好。
    (3)再生劑純度低  NaOH純度對陰樹脂的再生過程影響較大。工業堿中的雜質大部分為氯化物和鐵的氧化物。由于強堿陰樹脂對Cl一有較大的親合力,所以不宜用含有較多Cl一的堿來再生。因為Cl一不僅易于被樹脂吸附,而且不易被洗脫下來。當使用含較多Cl一的堿再生時,會使樹脂的工作交換容量降低,出水HSi03含量偏高。鐵的氧化物則會因其在堿中水解而形成沉淀,而污染了陰樹脂。
  (4)再生液溫度  提高再生堿溫度,可以改善對HSi03的
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