超純水設備電阻率大于18MΩ*cm或接近18.2MΩ*cm極限值(25℃)超純水，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。超純水是既將水中的導電介質幾乎去除。一般工藝很難達到水平，采用預處理、反滲透技術、超純化處置以及后級處置四大方法，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.2MΩ*cm25℃。單/多晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、電池(蓄電池)顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器、潔凈產品及各種元器件等生產工藝用高純水

　　代替了保守的離子交換水處置技術達到現代工業和環保的需求，EDI超純水設備從發明以來。所以當純水設備中的EDI出現問題和損壞時勢就會影響企業的正常生產，增加公司的運營本錢。

　　低于額定流量情況下運行，極板側積聚的熱量得不到有效散發，造成EDI接近兩極的膜片和隔網先發熱變形,EDI膜塊長期在大電流。EDI濃水壓差增加，水質和水量下降，嚴重會碳化漏水。EDI膜塊臨時沒有清洗頤養，EDI膜片和通道結垢，進出水壓差增加，造成產水水質下降，電流無法調節，電壓上升。超濾系統控制余氯等氧化劑不當，進EDI氧化劑超量，導致EDI樹脂破碎，堵塞產水通道，水量下降。采用不當的清洗和消毒，直接導致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產水水質和水量下降。EDI系統手動運行時，缺水狀態下加電，直接導致膜片和樹脂的發熱碳化，清洗無效，無法使用。EDI進水前無保安濾器，或裝置時沒有清洗管道和水箱，導致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增加，造成產水水量嚴重下降，清洗無效。