概要
實時的干涉測量設備,提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測。單色光打在樣品表面,由于膜厚和高度變化導致不同的光路長度時,使用干涉測量法。通過循環,系統能在監控區使用實時監測的方法計算蝕刻和鍍膜的速度,在規定的膜厚和槽深來進行終點檢測。基于這個相對簡單的理論,系統不但非常穩定,并且可用于復雜的多層薄膜。
特征
- 監測透明薄膜的厚度和高度,如GaN,ALGaN,SiO2 和SiN。
- 適用于等離子體頻譜分析。
- 生產線使用內置軟件。
- 終點檢測法的靈活應用。
- 的加工特點。
上海首立實業有限公司
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實時的干涉測量設備,提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測。單色光打在樣品表面,由于膜厚和高度變化導致不同的光路長度時,使用干涉測量法。通過循環,系統能在監控區使用實時監測的方法計算蝕刻和鍍膜的速度,在規定的膜厚和槽深來進行終點檢測。基于這個相對簡單的理論,系統不但非常穩定,并且可用于復雜的多層薄膜。
實時的干涉測量設備,提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測。單色光打在樣品表面,由于膜厚和高度變化導致不同的光路長度時,使用干涉測量法。通過循環,系統能在監控區使用實時監測的方法計算蝕刻和鍍膜的速度,在規定的膜厚和槽深來進行終點檢測。基于這個相對簡單的理論,系統不但非常穩定,并且可用于復雜的多層薄膜。
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