1200度透明高溫爐是為高溫材料處理設計的高溫透明爐,特別適合晶體生長應用和觀察材料在加熱狀態下的變化,是材料學科研的理想透明光學高溫爐。
1200度透明高溫爐是一種電阻加熱的鍍金石英管式爐,在標準透明高溫爐基礎上可為用戶訂做高真空透明爐。具有超高精確溫度控制和計算機數據采集功能,可采集不同位置的溫度數據。
應用:
適用于高溫材料加工。材料可以在整個加工周期中進行檢查，即時性識別熔化的準確溫度或產生的晶體缺陷。過去的透明爐被評定為接近900℃的溫度，并被用作材料加工研究的實驗室設備，以金屬連接和晶體生長為中心。創造了一個全新的方式，允許對只有在高溫下才能加工的有價值的材料進行檢查。II-VI族電子材料和釬焊過程需要熔銅晶體的生長是zui主要的例子。zui終的晶體產量可以戲劇性的增加，因為在晶體生產過程中就能識別那些有缺陷的晶體，并對其進行重熔，而不是等到晶體成長后再進行觀察。一種新的釬焊工藝可以在幾個周期內進行。
優勢:由于真空絕熱外殼的作用，該能夠在比競爭透明爐更高的溫度下運行。
規格
| 加熱區面積 | 直徑37毫米×200毫米，或用戶 |
| 加熱區材料 | 石英 |
| 工藝氣體: | 非爆炸性：空氣，惰性氣體，其他的氣體混合物 |
| 溫度控制 | 單個或多個熱區，可控硅溫度反饋。 |
| 電源 | 1.5 kW at 1200°C |
| 實用條件 | 120/240 VAC, single phase. |
| 控制數據獲取 | PID溫度控制和基于Windows的計算機控制可選。 |
| 上市計劃 | 任意 |
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