EVG勻噴膠及顯影系統(tǒng)EVG101

EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)是一款單片處理系統(tǒng)，建立了光刻膠涂布和顯影方面的質(zhì)量和工藝靈活性標(biāo)準(zhǔn)。可以處理2’到300mm直徑的基片、方片、甚至不規(guī)則形狀的基片，而且可以實(shí)現(xiàn)硅片在不同尺寸間簡(jiǎn)單快捷的更換。除此之外，EVG100系列還可以滿足客戶硅片邊緣處理和超薄硅片涂覆的要求。

EVG100系統(tǒng)的設(shè)計(jì)體現(xiàn)了的工藝適配性，可以配置勻膠、噴膠、顯影、烘烤和冷卻模塊以適應(yīng)每個(gè)客戶的生產(chǎn)需要。系統(tǒng)可匹配各種材料的不同工藝過(guò)程，如正性膠、負(fù)性膠、聚酰亞胺、薄膠層雙面涂覆、高粘度膠和邊緣保護(hù)涂覆等，非常適合于MEMS等器件的高標(biāo)準(zhǔn)涂覆要求。

二、應(yīng)用范圍

應(yīng)用于MEMS制造、晶圓級(jí)封裝、3D互聯(lián)工藝以及LED和光伏發(fā)電等領(lǐng)域。

三、主要特點(diǎn)

旋轉(zhuǎn)涂膠系統(tǒng)：

1. 高的基片旋轉(zhuǎn)速度，高的旋轉(zhuǎn)加速度，從而得到高的膜厚均勻性

2. 多種供膠方式，滿足不同應(yīng)用的涂膠需求

3. 工藝室配備上蓋，有效控制腔室內(nèi)的有機(jī)氣氛，避免了厚膠涂敷產(chǎn)生的“棉花糖"效應(yīng)，其上集成了六個(gè)噴頭可自動(dòng)清洗腔室內(nèi)壁上的殘膠；

4. 專有技術(shù)設(shè)計(jì)，基片旋轉(zhuǎn)速度為 10000 轉(zhuǎn)/分，旋轉(zhuǎn)加速度為40000 rpm/sec，以實(shí)現(xiàn)膠膜厚度高度均勻性。