納米壓印光刻（NIL）
EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場供應商。 EVG從15年前的研究中并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。 NIL是產生納米尺度分辨率圖案的有前途且成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及近各種衍射光學元件的各種商業應用。
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納米壓印光刻（NIL）EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場供應商
納米壓印光刻（NIL）
EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場供應商。 EVG從15年前的研究中并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。 NIL是產生納米尺度分辨率圖案的有前途且成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及近各種衍射光學元件的各種商業應用。
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