IQ Aligner® Automated UV Nanoimprint Lithography System

IQAligner® 自動化紫外線納米壓印光刻系統

用于晶圓級透鏡成型和堆疊的UV壓印系統

技術數據

IQ Aligner UV-NIL系統允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統從從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關的材料知識。

EV Group卡盤設計可為高產量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放郵票的釋放機制。

特征

用于光學元件的微成型應用

用于全場納米壓印應用

三個獨立控制的Z軸，可在印模和基材之間實現楔形補償

三個獨立控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝

EVG全自動浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對準和紫外線粘合功能

IQ對準器

技術數據

晶圓直徑（基板尺寸）150至300毫米

解析度≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對準：≤±微米

自動分離：支持的

前處理

涂層：水坑點膠（可選）

迷你環境和氣候控制

可選的：

工作印章制作：支持的；