1. 化的降低使用者的總體擁有成本；

2. 支持背面對準光刻和鍵合對準工藝

3. 自動的微米計控制曝光間距

4. 自動契型補償系統

5. 的全局光強均勻度

6. 免維護單獨氣浮工作臺

7. 小化的占地面積

8. Windows圖形化用戶界面

9. *的多用戶管理（用戶權限、界面語言、菜單和工藝控制）

襯底/晶片尺寸（mm）

小片--200mm，150mm*150mm， 厚度

掩膜板尺寸

9&＃39;*9&＃39;

物鏡間距

8-30mm連續可調

對準方式

上部對準，CCD

±

上部對準，目鏡

可選

底部對準

可選

透過式紅外對準

可選

鍵合對準

可選

原位對準校正

可選

工作臺

微米計

手動

載片臺

真空吸盤式，標配4寸，可擴至8寸

接觸壓力

5-80N可調

曝光

方式

接近式，軟、硬、真空接觸

分辨率

接觸式<,接近式≥2um

波長

350-450nm,可選200nm

光強均勻性

≤2%

汞燈

350W，500W

納米壓印光刻

硬壓頭

可選

軟壓頭

可選