奧地利EVK高光譜相機(jī)

EVK自成立以來(lái)一直致力于開(kāi)發(fā)高光譜成像及傳感器類(lèi)產(chǎn)品及解決方案，除了能夠?qū)ξ锪狭髦械膶?duì)象進(jìn)行分析和分類(lèi)并實(shí)時(shí)做出準(zhǔn)確決策的傳感器系統(tǒng)之外，EVK還設(shè)計(jì)了數(shù)據(jù)分析中的應(yīng)用程序，用于分類(lèi)，檢查，過(guò)程監(jiān)控和過(guò)程控制。多年來(lái)通過(guò)不斷地發(fā)展，EVK在循環(huán)，采礦，食品工業(yè)，制藥和化學(xué)工業(yè)中基于傳感器的分類(lèi)和分析系統(tǒng)的開(kāi)發(fā)和制造方面有一定地位。擁有技術(shù)團(tuán)隊(duì)的支持，從概念構(gòu)思到調(diào)試和支持，，可以為客戶(hù)需求提供的產(chǎn)品及服務(wù)。

產(chǎn)品范圍：

奧地利EVK傳感器、高光譜相機(jī)、高光譜攝相機(jī)

主要型號(hào)：

EQ32、Helios NIR G2 320 Class、Helios NIR G2 320 CORE

應(yīng)用：

食品加工、礦業(yè)、制藥業(yè)

相關(guān)產(chǎn)品介紹：

EQ32

描述：

EVK HELIOS EQ32高光譜成像系統(tǒng)是一款功能*的分析工具，基于非接觸式和無(wú)損實(shí)時(shí)紅外成像光譜技術(shù)。

EVK HELIOS系統(tǒng)分析物體的化學(xué)特性，并區(qū)分彩色相機(jī)不可見(jiàn)的材料類(lèi)型。內(nèi)部處理引擎可提供物料流的定性和定量信息，例如分析物濃度或材料成分。

攝像機(jī)附帶的即插即用組件經(jīng)過(guò)的內(nèi)部校準(zhǔn)。 Helios EQ32采用緊湊，堅(jiān)固的不銹鋼外殼，具有應(yīng)力去耦的光機(jī)械特性。

該系統(tǒng)針對(duì)實(shí)際工業(yè)環(huán)境進(jìn)行了優(yōu)化，可在整個(gè)溫度范圍內(nèi)提供穩(wěn)定的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。

主要特征：

-在0.93-1.70 nm的近紅外（NIR）波長(zhǎng)范圍內(nèi)工作

-312個(gè)有效像素的空間分辨率

-220個(gè)光譜像素時(shí)500 Hz的采集速度

-GigE Vision GenICam界面

-堅(jiān)固的工業(yè)設(shè)計(jì)。防護(hù)等級(jí)IP54

-溫度范圍0°C-50°C，具有的光學(xué)穩(wěn)定性

-光學(xué)系統(tǒng)針對(duì)分析應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化

-與EVK SQALAR軟件套件無(wú)縫集成

技術(shù)數(shù)據(jù)：

-光譜范圍：（929±2 – 1702±2）nm

-線(xiàn)掃描速率：446 Hz全幀

-光譜分辨率：2.5 nm

-光譜采樣：3.1 nm

-空間分辨率：312像素

-像素尺寸：30 x 30 µm

-光學(xué)耦合：C接頭

-擊角：60 µm

-接口：GigE Vision（GV）1），Camera link（CL）2）

-觸發(fā)輸入：RS-485

-不含鏡頭的尺寸：141 x 174 x 326 mm

-重量：約7.8公斤

-電源：18 – 36 V DC

-功耗：max 24W，典型的8W

-防護(hù)等級(jí)：IP54

-工作溫度：0至+50°C

-儲(chǔ)存溫度：-25至+75°C

-濕度：8至80％