奧林巴斯BX51M金相顯微鏡產品說明

暗視場觀察法
表面安裝板

暗視場可以讓用戶觀察來自樣本散射和衍射的光線。光源的光線會先穿過照明裝置中的環形光學照明器件，然后在樣本上聚焦。樣本上的光線只是由Z 軸上的瑕疵反射形成的。因此，用戶可以觀測到比光學顯微鏡分辨極限更小的、8 nm 級的微小劃痕和缺陷。暗視場適合檢測樣本上的微小劃痕及瑕疵和檢查表面光滑的樣本，包括晶圓。

偏振光觀察法
石棉

奧林巴斯BX51M金相顯微鏡觀察技術所使用的偏振光是由一組濾鏡（檢偏振器和起偏振器）產生的。樣本特征會直接影響系統反射光的強度。該觀察法適用于觀察金相組織（例，球墨鑄鐵中石墨的生長圖案）、礦物、LCD 和半導體材料。

微分干涉（DIC）觀察法
磁頭

DIC 是一種顯微觀察技術，可以將明視場觀察法中無法檢測到的高度差異，用增強的對比度以浮雕或三維圖像的形式表現出來。該項基于偏振光的技術，擁有三個專門設計的棱鏡可供選擇以滿足用戶的需求。該觀察法適用于檢測高度差異極其微小的樣本，包括金相組織、礦物、磁頭研磨面和硬盤表面及晶圓研磨面。

熒光觀察法
半導體晶圓上的顆粒 

該項技術適用于觀察那些在受到專門設計的濾鏡（可以按照檢測需要制作）照明時會發出熒光（發出不同波長的光線）的樣本。該方法通過熒光染色，應用于觀測半導體晶圓表面的污物、抗蝕劑的殘渣和裂痕的檢測。可以添加選購的復消色差光源聚光透鏡系統，從而為可見光到近紅外線范圍內的色差進行補償。

IR（紅外線）觀察法
硅晶片層下的半導體電路

對使用了硅片、玻璃等易透射紅外線的電子設備的內部進行無損檢測時，IR 觀察十分有效。IR 物鏡也可用于近紅外線技術，如：拉曼光譜儀和YGA 激光修復應用。

處理濾鏡
枝晶

OLYMPUS Stream 擁有各種濾鏡，可用于邊緣檢測、平滑處理和其它操作。使用處理濾鏡在拍攝的圖像上進行增強和修改處理后，圖像的特征變為可視化。為達到效果，可使用預覽圖檢查或調整濾鏡的效果。

透射光觀察法
LCD彩色濾鏡

對于透明樣本，如，LCD、塑料和玻璃材料，可通過使用各種透射光聚光鏡實現真正的透射光觀察。使用透射光可以在明視場、暗視場、DIC 和偏振光中對樣本進行成像和檢查--所有這些都在一個便捷的系統里。

自動制作3D 圖像（EFI）
硬幣細節

使用BX61 或外部電動調焦單元，便可以快速地記錄并組合超出焦深之外的樣本的圖像。只需一鍵操作，使用EFI 功能便可以將各個不同焦深的圖像合成一幅3D 圖像。zui終的3D數據可用于3D 觀察或用于測量高度和距離。

詳細參數: