CMP鉆石碟為CMP技術(shù)重要耗材,指用于維持拋光墊表面粗糙狀態(tài)及研磨性能的材料。CMP鉆石碟具有硬度高、耐腐蝕性強(qiáng)、可延長(zhǎng)拋光墊使用壽命等優(yōu)勢(shì),在晶圓制造過(guò)程中應(yīng)用較多。近年來(lái),伴隨晶圓制造逐漸往平坦化方向發(fā)展,CMP鉆石碟應(yīng)用前景不斷向好。
        CMP鉆石碟的技術(shù)核心:鉆石碟表面的金剛石顆粒不能有疊砂,表面必須足夠平整;表面的金剛石分布密度要足夠多,保證一定的磨削能力;修整器表面的金剛石顆粒在研磨拋光墊的過(guò)程中不能脫落,以免脫落的金剛石顆粒劃傷晶圓表面。