·XEMIS可作為一個獨立的天平使用

·所包含Hiden Isochema控制軟件，能記錄動力學數據與吸附性能，也可以與客戶現有的氣體輸送系統聯用。

·可配備吸附研究的自動化氣體輸送系統，從而轉為全自動吸附儀使用。

·在一個溫度范圍內，可以對不同的吸附物進行多個等溫線編程和自動測量。

·無需重新歸零或原位校準

·全金屬結構由高品質的VCR裝配

·模塊化設計，與所有配件兼容且可升級

·單獨的反應器可進行從77 K到773 K的全溫度范圍測量

·設計的微量天平橫梁安置在由金屬VCR密封的低容室內

·對稱設計的流量和浮力補償

·用于腐蝕性氣體測量時與其它磁懸浮天平所測試的氣體和蒸氣兼容

·操作壓力：      200bar，

·大容量微量天平：   5g

·分辨率：               0.2μg

·長期穩定性：        ±5μg

·寬動態稱量范圍：  0-200mg