NEXIV VMZ-NWL200影像測量儀
是一款集成了影像測量系統“NEXIV"和晶圓加載器“NWL200"的自動晶圓測量系統。NEXIV 擁有的圖像處理技術，可以自動對載具中裝載的 6 英寸或 8 英寸晶圓進行高速、高精度的測量。
高可靠性、高效率和可操作性
NEXIV 影像測量系統廣泛運用于半導體行業，現已與尼康久經驗證的 NWL200 自動晶圓裝載系統集成。
打造出的成果便是 VMZ-NWL200，這是一款具有可靠性和效率的創新型測量單元。此外，專門開發的軟件簡化了需在工藝控制中執行的復雜操作。如今，高質量數據可以更快地反饋到生產線，從而限度地提高良品率。
高可靠性
VMZ-NWL200 可以自動且穩定地執行測量，因此消除了由于操作員對讀數的不同解釋而導致的結果易變性。 此外，Nikon 充分利用其作為光學設備制造商的優勢，以提供清晰的圖像，從而準確地檢測被檢查對象的邊緣。
高效率
只需點擊一次，即可開始使用 VMZ-NWL200 執行檢查。而且，測量效率是工業測量顯微鏡的三倍。該影像測量系統的效率高，可幫助實現低 COO（使用成本）。
高可操作性
由于晶圓圖形顯示在 GUI 上，操作員只需用鼠標點擊相應的點即可指出要測量的芯片。
規格參數
| 設備 | 影像測量系統：NEXIV（VMZ-S3020 Type2、Type3、TypeTZ） |
| 加載器：NWL200 | |
| 晶圓 *1 | 尺寸：6、8 英寸（SEMI/JEIDA 標準） |
| 兼容的載具 | 6 英寸：PA182-60MB-06XX (Entegris) |
| 8 英寸：PA192-80M-06XX (Entegris) | |
| 產量 *2 | 6 分 45 秒 |
| L/S | 500 線/毫米 |
| 工作環境溫度 | 19～26℃ |
| 工作環境濕度 | 相對濕度小于 70% |
| 尺寸 | 4125 x 3040 mm |
| 電源電壓 | AC100-120V/200-240V |
| 電源頻率 | 50Hz/60Hz |
| 電流消耗 | 7.5A/3.7A |
| 真空 | -80kPa |
*1. 銷售前需進行晶圓傳輸評估
*2. 25 片晶圓的傳輸時間，不包括測量時間
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