原子分辨率300 kV透射電子顯微鏡 在精細加工技術已進入到亞納米級水平的半導體，*材料的研發領域，原子分辨率電子顯微鏡正在成為日益重要的，的工具。 為了滿足這種需求，日立公司研發出了透射電子顯微鏡 H-9500，此款高分辨透射電子顯微鏡不僅具備實地驗證過的各種優*性能，而且配置了很多滿足客戶多種需求的獨*功能，并采用了新的數字技術，便于用戶及時快速獲取原子水平的樣品結構信
*1：放大倍率校準為可選項
原子分辨率300 kV透射電子顯微鏡
在精細加工技術已進入到亞納米級水平的半導體，*材料的研發領域，原子分辨率電子顯微鏡正在成為日益重要的，的工具。
為了滿足這種需求，日立公司研發出了透射電子顯微鏡 H-9500，此款高分辨透射電子顯微鏡不僅具備實地驗證過的各種優*性能，而且配置了很多滿足客戶多種需求的獨*功能，并采用了新的數字技術，便于用戶及時快速獲取原子水平的樣品結構信息。
用戶友好型的操作系統
·和Windows®兼容的圖形用戶界面設計
·快速的樣品分析，1分鐘換樣，5分鐘內升高壓至(300 kV)
高穩定性，高分辨率透射電子顯微鏡
·點分辨率為0.18 nm，晶格分辨率為0.1 nm
·穩定可靠的5軸優中心測角臺
性能好，可靠性高
·得到市場驗證的10級加速器電子槍設計
·阻抗式高壓電纜設計
*檔可選附件
·通用樣品桿，在日立公司的TEM, FIB 和 STEM系統均可使用
·可為原子分辨率的動態研究提供加熱，冷卻和氣體注入等多種樣品桿
技術參數
| 項目 | 說明 | |
|---|---|---|
| 分辨率 | 0.10nm(晶格分辨率) 0.18nm(點分辨率) | |
| 加速電壓 | 300kV、200kV*1、100kV*1 | |
| 放大倍率 | 連續放大模式 | 1,000～1,500,000× |
| 選區模式 | 4,000～500,000× | |
| 低倍模式 | 200～500× | |
| 電子槍 | 燈絲 | LaB6(六硼化鑭燈絲，直流加熱) |
| 燈絲交換 | 自動升降式電子槍 | |
| 高壓電纜 | 阻抗電纜 | |
| 照射系統 | 透鏡 | 四級透鏡 |
| 聚光鏡光闌 | 4孔可變 | |
| 探針尺寸 | 微米束模式：0.05 - 0.2 µm(4級) 納米束模式：1 - 10 nm(4級) | |
| 電子束傾斜 | ±3° | |
| 成像系統 | 透鏡 | 五級透鏡 |
| 聚焦 | 圖像搖擺調整 利用像散監視器進行正焦補償 聚焦優化 | |
| 物鏡光闌 | 4孔可變光闌 | |
| 選區光闌 | 4孔可變光闌 | |
| 電子衍射 | 選區電子衍射 納米探針電子衍射 會聚束電子衍射 | |
| 相機長度 | 250 - 3,000 mm | |
| 樣品室 | 樣品臺 | 5軸優中心海帕測角臺 |
| 樣品尺寸 | 3mmΦ | |
| 樣品位置追蹤 | X/Y = ±1mm, Z = ±0.3 mm 通過CPU控制馬達驅動 | |
| 樣品位置顯示 | 自動驅動，自動跟蹤 | |
| 樣品傾斜 | α = ±15°, β = ±15° (日立雙傾樣品臺*2) | |
| 防污染 | 冷阱 | |
| 烘烤功能 | 中溫烘烤功能 | |
| 觀察室 | 熒光屏 | 主屏：110 mmΦ 聚焦屏：30 mmΦ |
| 目鏡 | 7.5× | |
| 照相室 | 區域選擇 | 整張照相/半張曝光 |
| 膠片 | 25張(2套膠片盒) | |
| 圖形用戶界面 | 操作系統：Windows XP® | |
| 顯示器 | 19英寸顯示器 | |
| 功能 | 數據庫，測量，圖像處理 | |
| 數碼CCD 相機*3 | 相機耦合 | 透鏡耦合 |
| 有x像素 | 1,024 × 1,024 像素 | |
| A/D 分辨率 | 12位 | |
| 真空系統 | 電子槍 | 離子泵：60 L/s |
| 鏡筒 | 渦輪分子泵：260 L/s | |
| 觀察室/照相室 | 擴散泵：280 L/s 前級泵：135 L/min × 3臺 | |
*2：可選件
*3：本規格適用于可選的1,024 × 1,024像素的數碼CCD相機以上規格是在加速電壓為300 kV時的*諾
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