渦輪分子泵應用于 ITO 鍍膜生產線
ITO Indium Tin Oxide, 銦錫氧化物, 結晶具有體心立方鐵錳礦結構, 是一種重摻雜, 高簡并的寬禁帶型半導體材料, 具有優良的導電性, 可見光透過率以及紅外反射率, 而且還具有高硬度, 耐磨性, 耐化學腐蝕特性. 因此廣泛應用于平板顯示器 FPD 和太陽能電池. 通常制備 ITO 薄膜的方法有溶膠凝膠法, 磁控濺射法, 脈總激光沉積和電子束蒸發等.

ITO 鍍膜過程必須在干凈清潔的真空系統中
上海伯東普發 Pfeiffer HiPace 渦輪分子泵清潔無油, 極限真空度可達 10-11mbar, 轉子速率可達 90000rpm, 廣泛應用于ITO 鍍膜生產線.

上海伯東 ITO 鍍膜生產線客戶案例: 深圳某企業為熱門的蘋果公司提供手機顯示屏, Pfeiffer 分子泵因其優秀性能應用在 ITO 生產線中,上海伯東作為德國普發 Pfeiffer 真空設備中國區銷售公司, 提供*的售前,售后服務并得到客戶一致的好評.

Pfeiffer 渦輪分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S, 轉速 90,000 rpm, 極限真空 1E-11 mbar, 對小分子氣體具有更高的壓縮比, 實踐證明 Pfeiffer 渦輪分子泵運行時間可以達到 100,000 小時! 普發分子泵提供復合軸承分子泵和五軸全磁浮分子泵二大系列滿足不同應用, 推薦搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型應用 >>

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