小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發的一款小型高真空蒸發鍍膜系統。采用大抽速分子泵準無油高真空系統，機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發狀態的玻璃真空室結構相得益彰。兩組/三組蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機EL、LED顯示管研究與開發領域。
主要特點/優勢：
★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察；
★ 復合分子泵和直聯旋片泵，大抽速準無油真空系統（分子泵抽速≥400L/S）；
★ 兩組水冷式蒸發電極，可長時間穩定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計；
★ 專業真空蒸發電源，數顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻
★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO3, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 7寸顯示器定時定點調節電流，達到控制功率效果
★ 具有記憶儲存功能，直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果
★ 配置了靶臺擋板，可手動調節或自動調節擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果
小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD技術資料
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數字式功率調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發源調節距離 | 70-140mm |
蒸發溫度調節 | ≤1800℃ |
支持蒸發坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
技術支持&服務：
1. 技術支持：在合同簽訂之前，我們的專業工程師會在充分了解客戶需求的前提下，為客戶做出*的選型和方案設計，使客戶充分了解并理解產品技術指標、性能用途、使用場合、安全注意事項等，以幫助客戶做出正確的選擇。
2. 安裝與培訓：在產品使用前，我們會派專業工程師為您提供現場技術支持、培訓及演示服務。
3. 產品質保：我們對產品提供12個月的質保期，在質保期內發生設備或配件損壞由公司負責賠償或免費維修。（耗材和易損件除外）
4. 終身維護：我們對提供的產品提供終身服務，對于超過質保期限的維修、維護僅收取材料費，免除一切人工費用。
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