芬蘭Picosun 原子層沉積機P-300S Pro ALD

技術參數



工藝溫度： 50 - 500 °C



襯底尺寸和類型 ：300mm晶圓/單片



基片傳送選件：

。 半自動裝載，用單片Load lock與磁力操縱桿實現
。25片晶圓盒對盒式全自動裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™ 300集群系統實現


標準 ：SEMI S2認證


前驅體：

。液態，固態，氣態，臭氧源
。等離子體（僅供200mm晶圓使用，最多4路氣體）
。前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
。6條獨立源管線,最多加載8個前驅體源（最多12個前驅體源，加上plasma管路共7根獨立源管線）

重量：820 kg


尺寸：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm


選件： 集群工具，PICOFLOW™擴散增強，N2發生器，尾氣處理，定制設計，與工廠軟件連接服務。


驗收標準 ：

。標準設備驗收標準為Al2O3工藝，
。其他工藝可具體協商：其他工藝、應用具體驗收標準如：
- 不均勻性
- 顆粒物含量
- 重金屬污染
- 電學性能