美國Nano-master兆聲晶圓清洗機SWC-4000

特點：

。支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
。獨立系統(tǒng)
。無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
。微處理機自動控制
。化學(xué)試劑滴膠單元
。溶劑與酸分離排廢
。熱氮
。30"D x 26"W 的占地面積



SWC-4000兆聲晶圓清洗機應(yīng)用：

。帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
。Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
。CMP處理后的晶圓片清洗
。晶圓框架上的切粒芯片清洗
。等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
。帶保護膜的分劃版清洗
。掩模版空白部位或接觸部位清洗
。X射線及極紫外掩模版清洗
。光學(xué)鏡頭清洗
。ITO涂覆的顯示面板清洗
。兆聲輔助的剝離工藝



選配項：

。掩模板或晶圓片夾具
。臭氧清洗
。PVA軟毛刷清洗
。高壓DI清洗
。氮氣離子發(fā)生器