英國Denton 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺

DENTON 薄膜沉積平臺

?R & D

?批量生產(chǎn)

?在線生產(chǎn)

?蒸發(fā)

?濺射

?PE-CVD



DENTON 的區(qū)別

你們的過程就是我們的過程。

我們與您合作設(shè)計(jì)一個(gè)系統(tǒng)，以解決您的確切薄膜涂裝工藝的需要。當(dāng)我們給你運(yùn)送工具時(shí)，它已經(jīng)準(zhǔn)備好生產(chǎn)了。

?我們的系統(tǒng)規(guī)模可以滿足您的生產(chǎn)需求

?我們永遠(yuǎn)相信客戶

?支持網(wǎng)絡(luò)



在DENTON，我們關(guān)心你的成功

?工廠驗(yàn)收測試

?個(gè)性化培訓(xùn)

?遠(yuǎn)程、實(shí)時(shí)支持

?CE / UL / CSA兼容系統(tǒng)

*的控制系統(tǒng):

可在半手動模式或全自動模式與一個(gè)推動自動化，以減少系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間。


能濺射:

電、磁、復(fù)合材料。柔性陰極，調(diào)整到?jīng)_擊角也可用



Processpro升級提供

1.所有登頓真空產(chǎn)品的一致性控制。

2.標(biāo)準(zhǔn)軟件使其易于支持和避免昂貴的定制費(fèi)用。

3.源代碼為您的程序，以便您可以自定義您的程序。

4.網(wǎng)絡(luò)功能使資源管理器

網(wǎng)絡(luò)上支持實(shí)時(shí)、遠(yuǎn)程支持和升級的節(jié)點(diǎn)

靈活的室大小;

可容納多達(dá)10英寸的襯底。



多個(gè)泵配置:

多種擴(kuò)散、低溫和渦輪泵配置可用于滿足您的預(yù)算和工藝。后方或底部安裝的泵提供方便的訪問服務(wù)，根據(jù)您的工作場所的需要。


濺射:

?材料研究

?產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證

?半導(dǎo)體失效分析

?CD掌握

?納米技術(shù)

?化合物半導(dǎo)體

?oled



蒸發(fā):

?材料研究

?離子輔助沉積(IAD)

?醫(yī)療設(shè)備

?電信

?CD掌握

?發(fā)射

?保護(hù)涂層

選項(xiàng)

典型的應(yīng)用:

PE-CVD

?材料研究

?小批處理系統(tǒng)

?3 d對象

?覆蓋各種材料